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光催化氧化工艺


(1)光催化氧化工艺简介


光化学和光催化氧化法是目前研究较多的一种高级氧化技术。光催化反应即在光的作用下进行的化学反应。分子吸收特定波长的电磁辐射后,是分子达到激发态,然后发生化学反应,产生新的物质,或成为热反应的引发剂。

(2)光催化氧化工艺原理及流程


Ti02作为一种半导体材料其自身的光电特性决定了它可以用作光催化剂。半导体的能带结构通常是一个电子填充低能量价带(VB)和一个空的高能量的导带(CB),导带和价带之间的区域被称为禁带。


当照射半导体的光能量等于或大于禁带宽度时,其价带电子被激发,跨过禁带进入导带,并在价带中产生相应空穴。电子从价带激发到导带,激发后分离的电子和空穴都有一部分进一步进行反应。


主要设备及构筑物

3.1设备清洗水预处理设计参数:混凝罐:Q×H=2.4 m×4.0 m,HRT:10 h;有效容积:18 m3;结构:碳钢防腐;内附:机械搅拌机和液位计2台,污泥泵3台,电磁流量计1台。

3.2生产废水工艺设计参数

3.2.1格栅间:格栅间与调节池合建。数量:1座;单座尺寸:L×B一2 m×1 m;结构:不锈钢;格栅间距:B一10 mm;安装角度:45度。

3.2.2集水池:主要是针对进水量波动比较大,排水规律性差的情况。当水位到达一定的高度时,水就被抽到调节池来调节水质,使水质均匀,然后进行下一步的处理。数量:1座;尺寸:L×BxH一2 m×6 m×6 m;HRT:2.5 h;有效容积:72 m3;有效水深:5.6 m;结构:钢混凝土结构;内附:自吸泵2台(1台1备),液位计1台。

3.2.3调节池:涂料废水的水量和水质变化幅度较大。为了避免水质的不均衡性给处理工艺带来的难度,保证后续设备的正常,需要对废水的水量和水质进行调节。数量:1座;尺寸:L×B×H一6 m×5 m×4.3 m;HRT:13 h;有效容积:120 m3;有效水深:4 m;结构:钢混凝土结构;内附:提升泵2台(1台1备),电磁流量计1台,液位计1台。

3.2.4气浮成套设备:型号:GSF15;设备尺寸:L×B×H一5.2 m×3 m×2.5 m;处理量:10~15 m。/h;数量:l台。内附:回流泵1台,空压机1台活0沫机1台,溶气罐1个。

3.2.5二级水解酸化池:废水在经过细菌形成的污泥层和填料时.污泥层对有机物进行吸附、网捕、生物絮凝、生物降解作用,同时去除a)D和悬浮物,将废水中固体状态的大分子和不易生物降解的有机物降解为易于生物降解的小分子有机物。水解酸化池对有机物的降解在一定程度上只是一个预处理过程,水解反应过程中没有彻底完成有机物的降解任务,而只改变了有机物的形态。是将大分子物质降解为小分子物质;难生化降解物质降解为易生化降解的物质,提高了废水的可生化性。数量:1座2格;总体尺寸:I,×B×H一5 m×5 m×6 m;HRT一11 h,其中一级水解酸化池HRT为6.5 h,二级水解酸化池HRT为4.5 h。池体有效容积:140 m3;超高:o.4 m;有效水深:5.6 m;填料层高度:3.5 m;结构:钢筋混凝土结构;建设方式:地下式。内附:弹性材料PVC 87.5 m3,潜水搅拌机2台,不锈钢材料。


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